ARIM微細加工/物質合成部門の装置
- OS-101(F11) 高精細収束イオンビーム装置 ZEISS ORION NanoFab
high definition focused ion beam system - OS-114(I21) RFスパッタ成膜装置 金属成膜用 サンユー電子 SVC-700LRF
RF sputtering system (metal) - OS-115(I22) RFスパッタ成膜装置 絶縁体成膜用 サンユー電子 SVC-700LR
RF sputtering system (oxide) - OS-110(I23), 111(N02) リアクティブエッチング装置 サムコ株式会社 RIE-10NR-NP/RIE-10NOU
reactive ion etching syste - OS-109(I24) 深掘りエッチング装置 サムコ株式会社 RIE-400iPB-NP
deep etching system - OS-103(I25) 超高精細電子ビームリソグラフィー装置125k エリオニクス ELS-100
ultra high definition electron beam lithography system 125k - OS-102(N01) SEM付集束イオンビーム装置 ZEISS Nvision 40D with NPVE
focused ion beam system with SEM - OS-113(N03) 多元DC/RFスパッタ装置 キヤノンアネルバ EB1100
multi-target DC/RF sputtering system - OS-116(N04) ICP-RFスパッタ装置(ヘリコン型RFスパッタ装置) アルバック MB02-5002
Inductively Coupled Plasma Radio Frequency Sputtering System - OS-117(N05) EB蒸着装置(電子ビーム蒸着装置） アルバック UEP-2000 OT-H/C
EB deposition system - OS-126(N07) 接触式膜厚測定器(膜厚計） BRUKER DektakXT-A
stylus profiler - OS-105(N09) 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置 エリオニクス ELS-S50LBC
high speed wide area electron beam lithography system - OS-107(N08) マスクアライナー ミカサ MA-10
mask aligner - OS-104(N10) 自動搬送電子ビーム描画装置 エリオニクス ELS-BODEN-OU4801
Automatic Transport Electron Beam Lithography System - OS-127(N31) レーザーラマン顕微鏡 ナノフォトン RAMAN-touch VIS-NIR-OUN
laser raman microscope - OS-125(N32) 走査型プローブ顕微鏡(E-sweep) 日立ハイテクサイエンス AFM5000/AFM5300E
scanning probe microscope - OS-128(N33) 物理特性測定装置 日本カンタム・デザイン DynaCool-9
Physical Property Measurement System: PPMS - OS-108(S01) ナノインプリント装置 Obducat Eitre3
nanoimprint system - OS-120(S32) 薄膜X線回折装置 リガク Ultima IV
X-Ray diffraction system - OS-123(S35) ナノ粒子解析装置(ゼータサイザー) シスメックス NANO-ZS
zetasizer - OS-119(N62) 自動制御型パルスレーザー蒸着ナノマテリアル合成装置 パスカル MC-LMBE
automatic pulsed laser deposition nano-materials synthesis system
ARIM微細構造解析部門の装置
- ３MV 超高圧電子顕微
- １MV 物質・生命科学超高圧電子顕微鏡
- 200kV 原子分解能走査透過分析電子顕微鏡
- 300kV クライオ電子顕微鏡
- 複合ビーム３次元加工・観察装置
- 高分子・生物系電子顕微鏡用試料作製装置軍
- 電界放出型200kV 高分解能電子顕微鏡
- 200kV 回折コントラスト電子顕微鏡
- 120kV マルチマテリアル用電顕
上記の装置の利用詳細についてはこちらをご覧ください。
