OS-117 (N05) EB蒸着装置(電子ビーム蒸着装置） アルバック UEP-2000 OT-H/C
EB deposition system
特徴
蒸発源として電子ビームを用いることで、蒸発させにくいPt, Au, Ni, Tiなどの金属薄膜の形成が可能
微細構造を作製するために基板への斜入射蒸着を可能としており、また基板を冷却あるいは過熱する機能がある
仕様
高真空中で一度に4種類の金属薄膜形成が可能
試料サイズ：max 4 inch
EB蒸着ユニット
設置場所：N-415
装置番号：N05
ARIM装置番号：OS-117
