OS-108 (S01) ナノインプリント装置 Obducat Eitre3
nanoimprint system
特徴
UV（波長250～450nm）と熱（室温～200℃）を使って、最大3インチの微細パターンを転写可能
エア加圧（最大50bar)なので基板全面に均一に転写でき、異物によるモールドの破損が少ない
鋳型準備が必要だが同じパターンを複数作製したいユーザーに最適
仕様
熱･UVの両方式に対応
試料サイズ：3 inch
設置場所：N-415
装置番号：S01
ARIM装置番号：OS-108
