OS-101 (F11) 高精細集束イオンビーム装置 ZEISS ORION NanoFab
high definition focused ion beam system
特徴
イオン源にHeガスを採用し、最小ビーム径0.5nmΦの分解能を有する装置
【FIB】10nm以下の微細加工が可能
【ヘリウムイオン顕微鏡】（He/0.5nm) 中和銃装備のため、絶縁体を導電性処理なしに観察可能。生態観察にも適している
仕様
イオン源：He/Ne (希ガス)
最小ビーム径：0.5nm(He), 1.9nm(Ne)加速電圧：10～40kV, ET検出器：2次電子, 電子中和銃（Flood gun)装備
GIS：Pt, SiO2, XeF2, 試料サイズ：45mmΦ
設置場所：F-193
装置番号：F11
ARIM装置番号：OS-101
