OS-105 (N09) 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置 エリオニクス ELS-S50LBC
high speed wide area electron beam lithography system
特徴
加速電圧50kVで1μAのビーム電流可能
最高クロック周波数100MHzの高速ビーム変更システムを搭載し、大面積を高スループットで描画することに特化した装置
仕様
電子銃：ZrO/W熱電界放出型（TFE）
描画方式：ベクタースキャン方式
加速電圧：20,30,50kV
ビーム電流量：100pA～1μA
描画フィールド：100X100μm～3000X3000μm
ビーム位置決め分解能：0.1nm（100μm field時）
ブランキング速度：25ns
ステージ位置読み取り制度：0.3nm
試料サイズ：10～25ｍｍ□、３inch□
4 inch・6 inchφウエハー
観察倍率：X50～X500K
設置場所：N-415
装置番号：N09
ARIM装置番号：OS-105
