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Molecule & Material Synthesis Platform
in Nanotechnology Open Facilities

支援提供装置EQuipments

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装置名 メーカー
機種
仕様
装置番号
装置画像
パルスレーザーMBE装置
(PLD)
誠南工業株式会社
PLO-020R
ArF レーザー:193nm
    (標準出力100mJ)
試料加熱:〜850℃
酸素分圧:10E-6〜5Pa
試料サイズ:max 1cm 
S01
有機蒸着装置 誠南工業株式会社
VCH-020R
2Ch K-cell
試料サイズ:max 1cm
S02
原子間力顕微鏡(AFM) 株式会社
日立ハイテクサイエンス
SPI3800N/SPA-300HV
真空度:〜10E-5Pa、各種ガス雰囲気
分解能:0.3nm,
液中観察可能
試料サイズ:max 1inch
S03
薄膜X線回折装置 株式会社リガク
Ultima IV
インプレーンスキャンによる面内構造解析が可能 S04
赤外・テラヘルツ
時間分解分光装置
日邦プレシジョン株式会社
Pulse IRS 2000-os
1ps以下の高時間分解能 S05
フーリエ変換赤外分光光度計 日本分光株式会社
6100FV型 MCT-600
測定波長領域:2.5μ〜45μm
試料室減圧測定可能
S06
ナノ粒子解析装置
(ゼーターサイザー)
シスメックス株式会社
NANO-ZS
濃度0.1ppm〜40%/Wでの測定可能 S07
位相変調型
 分光エリプソメーター
株式会社堀場製作所
UVISEL LT NIR-NNG
波長域260nm〜2100nm
照射領域:2mm×6mm
S08
ICP-RFスパッタ装置
(ヘリコン型
 RFスパッタ装置)
アルバック株式会社
MB02-5002
試料サイズ:max 2inch
基板加熱温度:800℃
ガス種:Ar,O2
S09
RFスパッタ装置
(マグネトロン型
 RFスパッタ装置)
サンユー電子株式会社
SVC-700LRF
試料サイズ:max 2inch
加熱温度:RT〜300℃
ガス種:Ar,O2,N2
S10
電気炉 誠南工業株式会社
ARF-30K 
真空度:〜10E-5Pa
温度:〜1000℃
S11
紫外可視分光光度計 日本分光株式会社
V-550
190nm〜1100nmまでの分光分析が可能 透過法のみ
1cmセル
S12
反応性イオンエッチング装置 サムコ株式会社 
RIE-10NR 
試料サイズ:max 8inch
ガス種:Ar,CF4, O2 
S13
走査型電子顕微鏡 日立ハイテクノロジーズ
SU9000
加速電圧:0.5〜30kV
二次電子像分解能:0.5nm(加速電圧30kV)
STEM分解能:0.34nm(加速電圧30kV)
S14
走査型プローブ顕微鏡
(E-sweep)
日立ハイテクサイエンス
AFM5000/AFM5300E
AFM・MFM・KFM・電流マッピング対応
加熱・冷却対応温度制御ステージ
水平磁場印加システム対応:500mT
試料サイズ:max 25mmφ、10mm t
 水平磁場印加システム取付時は
  max6mmφ、5mm t
S15
SIMS付カウフマン型
 イオンミリング装置
伯東
IBE-KDC75-EPD-OU-TA
チャンバー:ステンレス製、冷却機能付
ステージ:直冷式、1 cm角〜4インチウエハまで搭載可能
エッチング均一性 ≦±6%
四重極質量分析計終点検知器付
S16
接触式膜厚測定器(膜厚計) BRUKER
DektakXT 
測定レンジ:1mm
測定再現性:5Å
走査距離上限:55mm
触針圧:1mg〜15mg
S17
イオン化エネルギー
 測定装置
分光計器 
イオン化エネルギー測定部
BIP-KV202GD
エネルギー走査範囲:3.1 〜9.0 eV
真空度:1E-2 Pa(ガス置換可能)
D2ランプ/Xeランプ手動切り替え機構
S18
レーザーラマン顕微鏡 ナノフォトン
RAMAN-touch
レーザー:532nm(500mW)、785(500mW)
  スポット・ライン照射
回折格子:300,600,1200gr/mm
空間分解能:X;500nm、
   Y;350nm、Z;1000nm
S19
レーザー照射
 励起電流測定装置
分光計器 
電流密度分布評価測定部BIP-KV302K
分解能:100μm
レーザー光源:532nm
  (10mW・両面照射可)
S20

ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内 N棟
410号室・411号室
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)