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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

高速大面積電子ビームリソグラフィー装置ELS-S50LBC

高速大面積電子ビームリソグラフィー装置

エリオニクス製 ELS-S50LBC

【特徴】

加速電圧50kVで1μAのビーム電流を得られます。
最高クロック周波数100MHzの高速ビーム変更システムを搭載し、大面積を高スループットで描画することに特化した装置です。

【仕様】
電子銃:ZrO/W熱電界放出型(TFE)
描画方式:ベクタースキャン方式
加速電圧:20,30,50kV
ビーム電流量:100pA〜1μA
描画フィールド:100X100μm〜3000X3000μm
ビーム位置決め分解能:0.1nm(100μm field時)
ブランキング速度:25ns
ステージ位置読み取り制度:0.3nm
試料サイズ:10〜25mm□、3インチ□
      
4インチ・6インチφウエハー
観察倍率:X50〜X500K

 
 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置 描画事例
50keV電子ビームリソグラフィー装置(エリオニクスELS-S50LBC)での描画パターンのSEM写真
ピッチ2μmのL&S(線幅1μm)10mm□描画時間 20min@200nA
φ1μmのドットパターン  10mm□描画時間 3hour@10nA

ナノテクノロジー設備供用拠点

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大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
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TEL 06-6879-7941
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〒567-0047
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大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)