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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

高精細集束イオンビーム装置ORION NanoFab

高精細集束イオンビーム装置

ZEISS  “ORION NanoFab”

【特徴】
イオン源にHeガスを採用し、最小ビーム径0.5nmφ の分解能を有する装置です。
 【FIB】10nm以下の微細加工が可能。 
 【ヘリウムイオン顕微鏡】(He/0.5nm)
中和銃装備のため絶縁体を導電性処理無しに観察可能。生体観察にも適する。

【仕様】
イオン源:He / Ne (希ガス)
最小ビーム径:0.5 nm (He),1.9 nm (Ne)
加速電圧:10〜40 kV、 ET検出器:2次電子
電子中和銃(Flood gun)装備
GIS:Pt、SiO2、XeF2、 試料サイズ: 45mmφ


ヘリウムイオン顕微鏡とは → こちら 2017/12/18 up 
大阪大学のヘリウムイオン顕微鏡 → こちら 2017/12/18 up 
大阪大学ヘリウムイオン顕微鏡の加工観察事例
 1.蚊の複眼と羽の観察 → こちら 2017/12/11 up
 
 2.ルリセンチコガネの羽の断面加工と観察 → こちら 2018/1/15 up 

ナノテクノロジー設備供用拠点

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